產(chǎn)品詳細參數(shù)如下：

鈷鈮鋯合金靶材產(chǎn)品詳情：

　　鈷鈮鋯靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是由高純鈷、鈮、鋯經(jīng)過高真空熔煉得到鑄坯，再經(jīng)加工得到的產(chǎn)品，具有特定的尺寸和形狀的高純鈷鈮鋯材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

　　CoNbZr合金靶材濺射得到的納米晶磁性薄膜，與多晶態(tài)薄膜，主要是鈷Co，鈷鐵CoFe和坡莫合金NiFe三種磁性薄膜，其中的非磁性隔離層是銅Cu等貴金屬材料形成的三明治膜層，具有極薄的總體厚度(10nm左右)，較大的磁阻效應(yīng)(10%以上)，穩(wěn)定的單疇?wèi)B(tài)，優(yōu)越的翻轉(zhuǎn)特性，翻轉(zhuǎn)場均勻性偏差<8%，是生產(chǎn)RAM、MRAM等存儲器件的重要的膜層材料。

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