產品詳細參數如下：
產品類別 | 合金靶材 |
產品簡稱 | CoNbZr |
產品全稱 | Cobalt niobium zirconium |
產品純度 | 99.9%，99.95%，99.99% |
產品形狀 | 平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶 |
生產工藝 | Vacuum Melting |
最大尺寸 | L≤200mm，W≤200mm |
鈷鈮鋯合金靶材產品詳情：
鈷鈮鋯靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是由高純鈷、鈮、鋯經過高真空熔煉得到鑄坯，再經加工得到的產品，具有特定的尺寸和形狀的高純鈷鈮鋯材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。CoNbZr合金靶材濺射得到的納米晶磁性薄膜，與多晶態薄膜，主要是鈷Co，鈷鐵CoFe和坡莫合金NiFe三種磁性薄膜，其中的非磁性隔離層是銅Cu等貴金屬材料形成的三明治膜層，具有極薄的總體厚度(10nm左右)，較大的磁阻效應(10%以上)，穩定的單疇態，優越的翻轉特性，翻轉場均勻性偏差<8%，是生產RAM、MRAM等存儲器件的重要的膜層材料。
北京瑞弛高科技有限公司提供鈷鈮鋯靶材，可以根據客戶要求定制，如需要更多的信息，敬請聯系我們。
